光刻機(jī)，主要可以用于芯片、封裝和LED的制造。

    尤其在芯片的制作工序上。

    有六大主要步驟：

    沉積、光刻膠涂覆、光刻、刻蝕、離子注入和封裝。

    單看步驟似乎很簡單，與三步裝大象沒什么差別。

    可實(shí)際上，簡單的名詞背后完全是幾十年努力的心血，甚至還可能研究不出來。

    目前，華國已經(jīng)有了第一臺(tái)5納米光刻機(jī)。

    5納米什么概念？

    那已經(jīng)是對(duì)光硬控到極致的最小誤差了！

    在5納米光刻機(jī)出世之前，甚至華國網(wǎng)民不敢想能造的出來的程度。

    一開口就是“自嗨”。

    但還是出來了！

    5納米光刻機(jī)的問世，標(biāo)志著華國在半導(dǎo)體領(lǐng)域取得了空前的進(jìn)步。

    是華國第一次在半導(dǎo)體領(lǐng)域不再被卡脖子。

    而是握緊了拳頭。

    這原本就是大好的消息了。

    可葛教授等人怎么甘心就到這個(gè)程度？

    如果……