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第203章 參觀存儲(chǔ)芯片制造過程

    沒過多久,范宏毅便帶著兩人來到了存儲(chǔ)芯片生產(chǎn)車間的大門前。

    到了門口,林鵬迫不及待地將目光投向那扇緊閉的窗戶,透過玻璃,可以清晰地看見里面生產(chǎn)線上那些正忙碌不停的技術(shù)人員。

    這時(shí),范宏毅從旁邊取來了三套嶄新的工作服,分別遞給了林鵬和崔輕舟。

    兩人心領(lǐng)神會(huì),非常熟練地接過衣服,并迅速穿戴起來。

    這工作服不僅具有良好的防塵功能(無塵服),而且還能有效地防止靜電產(chǎn)生。

    芯片制造對(duì)生產(chǎn)環(huán)境要求很高,不能有絲毫的瑕疵,無塵、防靜電只是基本操作。

    一切準(zhǔn)備就緒后,三人沒有絲毫耽擱,徑直走進(jìn)了生產(chǎn)車間。

    一進(jìn)門,那種機(jī)器運(yùn)轉(zhuǎn)的聲音瞬間撲面而來,但他們并沒有因此受到干擾,而是目標(biāo)明確地朝著生產(chǎn)線的頭部快步走去。

    范宏毅一邊走一邊介紹道:“存儲(chǔ)芯片的制造工藝相對(duì)來說,比處理器要簡(jiǎn)單很多。”

    “其中,初期的原材料加工步驟和處理器硅片制造是一樣的?!?br/>
    “那就是將稀土加熱分離出一氧化碳和硅,然后不斷重復(fù)提純獲得超高純度電子級(jí)硅,再熔化成液體凝固成單晶固體形式的特定狀態(tài)?!?br/>
    “第二步將硅切割成一定厚度薄片,通過研磨、化學(xué)刻蝕去除硅片表面瑕疵,然后再進(jìn)行拋光、清洗獲得光潔的成品硅片?!?br/>
    “第三步是:去除硅片表面雜質(zhì)和污染物,再將硅片置于800至1200攝氏度高溫環(huán)境下,通過氧氣或蒸氣在其表面流動(dòng)形成二氧化硅層,以保護(hù)硅片不受化學(xué)雜質(zhì)影響、避免漏電流等?!?br/>
    “氧化層厚度受硅片結(jié)構(gòu)、設(shè)備壓力溫度等因素影響,根據(jù)氧化劑不同分為干法氧化和濕法氧化?!?br/>
    “這些就是初期的原材料加工,其步驟多達(dá)數(shù)百次?!?br/>
    范宏毅頓了頓繼續(xù)說道:“硅片制造出來以后才到我們這里?!?br/>
    “我們拿到硅片后,第一步就是在上面涂覆光刻膠。在氧化層上涂覆光刻膠,使其成為可印刷電路圖案的“相紙”,光刻膠越薄越均勻,可印刷圖形越精細(xì)?!?br/>
    說到這里,范宏毅指著一旁的光刻機(jī)道:“第二步就是光刻:通過光刻機(jī)控制光線照射,使光線穿過包含電路圖案的掩膜,將電路印制到涂有光刻膠的硅片上,印刷圖案越精細(xì),芯片容納元件越多?!?br/>